极紫外光刻_资讯搜索

快科技6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻机孔径数...

ASML 光刻机极紫外光刻

2024年06月16日

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据外媒报道，台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机，暗藏了一个致命的后门，可以在必要的时候执行远程自毁。至于这个自毁开关为何存在，意在何时使用，无需赘言。但目前尚不清楚它到底是否真的存在，...

ASML 光刻机极紫外光刻

2024年05月22日

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这几年，Intel以空前的力度推进先进制程工艺，希望以最快的速度反超台积电，重夺领先地位，现在又重申了这一路线，尤其是意欲通过未来的14A 1.4nm级工艺，在未来巩固自己的领先地位。目前，Intel正在按计划实现...

Intel Intel 14A

2024年05月11日

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