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首页 与“光刻胶”有关的内容
  • 拒绝日本卡脖子 韩国SK海力士将国产化EUV光刻胶

    拒绝日本卡脖子 韩国SK海力士将国产化EUV光刻胶

    快科技12月7日消息,前不久日本断供光刻胶的消息引发关注,虽然日本方面否认了传闻,但在光刻胶领域,日本公司确实卡了大部分半导体公司的脖子。 尤其是在先进的EUV光刻胶领域,目前主要掌握在日本JSR、信越化学...

    光刻机 光刻胶 EUV光刻机
    2025年12月07日
    0 2886
  • 2nm工艺志在必得 日本三大EUV光刻胶巨头巨资扩产

    2nm工艺志在必得 日本三大EUV光刻胶巨头巨资扩产

    快科技11月3日消息,EUV工艺是5nm节点之后无法绕过的先进工艺,EUV光刻机只有荷兰ASML能产,但日本在EUV光刻胶领域很有优势,针对2nm及以下节点,日本三大化工巨头都在积极扩产。 日本半导体材料厂东京应化工业(...

    CPU处理器 EUV光刻机
    2025年11月03日
    0 2886
  • 中国光刻胶领域取得新突破!首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”

    中国光刻胶领域取得新突破!首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”

    快科技10月26日消息,我国光刻胶领域取得新突破! 据科技日报报道,近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维...

    光刻胶 EUV光刻机
    2025年10月26日
    0 2886
  • 首次!中国芯片领域取得新突破 改进光刻胶缺点:提升7nm及以下先进制程良率

    首次!中国芯片领域取得新突破 改进光刻胶缺点:提升7nm及以下先进制程良率

    快科技10月26日消息,据国内媒体报道称,我国芯片领域取得新突破,具体来说是在光刻胶领域。 北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液...

    CPU处理器 处理器 7nm
    2025年10月26日
    0 2886
  • 全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动

    全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动

    快科技9月8日消息,EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备,同样重要的还有EUV光刻胶,现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。 来自无锡政府网站的消息,9月4日2025集成电路(无锡)创新发展大...

    光刻机 极紫外光刻 光刻胶
    2025年09月08日
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  • 我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证:为EUV光刻胶开发做技术储备

    我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证:为EUV光刻胶开发做技术储备

    快科技4月2日消息,据湖北九峰山实验室官微消息,九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队,支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。 据介绍,该研究通过巧...

    光刻胶 光刻机 半导体
    2024年04月02日
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