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首页 与“EUV光刻机”有关的内容
  • 拒绝日本卡脖子 韩国SK海力士将国产化EUV光刻胶

    拒绝日本卡脖子 韩国SK海力士将国产化EUV光刻胶

    快科技12月7日消息,前不久日本断供光刻胶的消息引发关注,虽然日本方面否认了传闻,但在光刻胶领域,日本公司确实卡了大部分半导体公司的脖子。 尤其是在先进的EUV光刻胶领域,目前主要掌握在日本JSR、信越化学...

    光刻机 光刻胶 EUV光刻机
    2025年12月07日
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  • 美国官方投资EUV初创企业xLight:1000W功率 4倍于ASML光刻机

    美国官方投资EUV初创企业xLight:1000W功率 4倍于ASML光刻机

    快科技12月2日消息,EUV技术对5nm以下的先进工艺已经必不可少,全球唯一能生产EUV光刻机的只有荷兰ASML,美国现在也在这个领域加大了投资,官方下场投资了一家初创企业。 这家公司名为xLight,他们的目标是开发新...

    光刻机 极紫外光刻 EUV光刻机
    2025年12月03日
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  • 2nm工艺志在必得 日本三大EUV光刻胶巨头巨资扩产

    2nm工艺志在必得 日本三大EUV光刻胶巨头巨资扩产

    快科技11月3日消息,EUV工艺是5nm节点之后无法绕过的先进工艺,EUV光刻机只有荷兰ASML能产,但日本在EUV光刻胶领域很有优势,针对2nm及以下节点,日本三大化工巨头都在积极扩产。 日本半导体材料厂东京应化工业(...

    CPU处理器 EUV光刻机
    2025年11月03日
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  • 比EUV更强 美国公司研发X光刻机:目标取代台积电和ASML

    比EUV更强 美国公司研发X光刻机:目标取代台积电和ASML

    快科技10月30日消息,先进芯片工艺越来越离不开EUV光刻机,全球仅有荷兰ASML公司能生产,现在美国一家初创公司要用新技术挑战ASML的地位了。 这家公司名为Substrate,他们的终极目标是在美国建立晶圆代工业务,挑...

    ASML 光刻机 EUV光刻机
    2025年10月30日
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  • 中国稀土决定芯片制造商生死!台积电:稀土库存可维持一到两年 但长期供应风险仍存

    中国稀土决定芯片制造商生死!台积电:稀土库存可维持一到两年 但长期供应风险仍存

    快科技10月29日消息,不管你多先进的光刻机,如果没有稀土一样玩不转。 台积电高级副总裁兼副联席首席运营官侯志强(Cliff Hou)近日公开表示,短期内,由于稀土库存充足,台积电不会面临风险,但如果供应持续受...

    芯片 国产芯片 光刻机
    2025年10月29日
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  • 中国光刻胶领域取得新突破!首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”

    中国光刻胶领域取得新突破!首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”

    快科技10月26日消息,我国光刻胶领域取得新突破! 据科技日报报道,近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维...

    光刻胶 EUV光刻机
    2025年10月26日
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  • 台积电“银色高速公路”首度公开!EUV光刻机生产芯片全程曝光

    台积电“银色高速公路”首度公开!EUV光刻机生产芯片全程曝光

    快科技10月20日消息,这是台积电内部“银色高速公路”首度公开。 近日,台积电发布一段罕见视频,展示其位于美国亚利桑那州的Fab 21工厂内部运作,让外界得以深入了解该工厂采用的N4/N5先进制程技术生...

    台积电 光刻机 EUV光刻机
    2025年10月20日
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  • 全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动

    全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动

    快科技9月8日消息,EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备,同样重要的还有EUV光刻胶,现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。 来自无锡政府网站的消息,9月4日2025集成电路(无锡)创新发展大...

    光刻机 极紫外光刻 光刻胶
    2025年09月08日
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  • 用上30亿一台的EUV光刻机 Intel对14A仍有信心:没客户的可能不大

    用上30亿一台的EUV光刻机 Intel对14A仍有信心:没客户的可能不大

    快科技9月7日消息,Intel公司今年将量产18A工艺,这是他们四年五代工艺中的关键一环,而且该工艺会持续改进,一直用到2030年。 18A下一代工艺就是14A了,这一代还会用上High NA EUV光刻机,也就是ASML公司的Twins...

    CPU处理器 Intel Intel
    2025年09月07日
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  • 美国投行给中国光刻机落后ASML 20年原因:缺乏制造先进光刻扫描仪能力

    美国投行给中国光刻机落后ASML 20年原因:缺乏制造先进光刻扫描仪能力

    快科技9月3日消息,昨天美国知名的投行高盛给出观点称,中国先进芯片制造业落后西方技术20年。 投资银行高盛认为,中国光刻机公司至少落后美国同行20年。光刻技术是半导体制造的几个环节之一,也是阻碍中国制造高...

    光刻机 EUV光刻机
    2025年09月03日
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  • 日本觊觎台积电2nm原因找到了:刻蚀机价值不输EUV光刻机

    日本觊觎台积电2nm原因找到了:刻蚀机价值不输EUV光刻机

    快科技8月29日消息,台积电2nm工艺窃密案日前侦结,有3人起诉,最高可判14年,后果非常严重。 这件事还牵涉到了日本KEL威力科创,其中的主犯陈某就是从台积电离职后加入了这家公司,他们也是全球TOP级的半导体设...

    台积电 2nm 光刻机
    2025年08月29日
    0 2886
  • ASML向中国出口一台光刻机有多赚钱:利润相当于20万吨猪肉

    ASML向中国出口一台光刻机有多赚钱:利润相当于20万吨猪肉

    快科技8月19日消息,近日,我国驻爱尔兰特命全权大使赵希源接受采访时表示,荷兰公司对华出口一台光刻机利润相当于20万吨猪肉。 过去数十年中爱经贸合作保持稳定增长势头,但2023年爱对华出口出现了明显下降,原...

    光刻机 EUV光刻机
    2025年08月19日
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  • 中国刻刀来了!首台国产商业电子束光刻机“羲之”出炉:和EUV光刻机有何区别

    中国刻刀来了!首台国产商业电子束光刻机“羲之”出炉:和EUV光刻机有何区别

    快科技8月17日消息,据国内媒体报道,近日,全国首台国产商业电子束光刻机在杭州“出炉”,其精度比肩国际主流设备,标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。 在杭州城西科创大走廊的浙江...

    光刻机 电子束 电子束光刻机
    2025年08月17日
    0 2886
  • EUV随便买就是任性 SK海力士DDR5内存用上6层EUV

    EUV随便买就是任性 SK海力士DDR5内存用上6层EUV

    快科技8月11日消息,逻辑芯片在进入5nm节点之后全面使用了EUV工艺,存储芯片使用DUV工艺为主,这四五年才刚开始尝试EUV工艺,现在SK海力士公司更为激进,新一代DDR5将使用6层EUV光刻。 大家都知道,相比于DUV光刻...

    DDR5 EUV光刻机
    2025年08月11日
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  • 攻克7nm指日可待!国产第500台步进光刻机成功交付

    攻克7nm指日可待!国产第500台步进光刻机成功交付

    快科技8月9日消息,毫无疑问,我国正在发力光刻机,而先进制程的7nm工艺早晚会被攻克,目前全产业链都在集体发力。 据上海芯上微装科技股份有限公司(简称“芯上微装”或“AMIES”)发布公告...

    光刻机 EUV光刻机
    2025年08月09日
    0 2886
  • 唯一EUV光刻机供应商 ASML获得美国豁免:进口无需加税

    唯一EUV光刻机供应商 ASML获得美国豁免:进口无需加税

    快科技8月3日消息,先进半导体制造越来越依赖尖端光刻机,尤其是EUV光刻机,其中荷兰ASML公司是当前唯一EUV光刻机供应商,这一独特地位也让他们获得了美国的豁免,出口不受影响。 美国与欧盟前不久宣布达成了贸易...

    ASML 阿斯麦 美国
    2025年08月03日
    0 2886
  • 30亿元/台!全球首台顶级光刻机出货 支持后2nm工艺:中国厂商不可能买到

    30亿元/台!全球首台顶级光刻机出货 支持后2nm工艺:中国厂商不可能买到

    快科技7月17日消息,光刻机龙头ASML现在宣布,全球首台最强光刻机第二代High NA EUV已经出货。 按照官方的说法,EXE:5200是ASML对现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进版本,首台买家是英特尔,一台售价近30...

    光刻机 EUV光刻机
    2025年07月17日
    0 2886
  • 史上最先进!ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机:5nm单次曝光

    史上最先进!ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机:5nm单次曝光

    快科技6月29日消息,全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机,为未来十年的芯片产业做准备。 Jos Benschop表示,ASML及独家光学合作伙伴蔡司(Carl Zeiss)正在研究可在单次曝光中印...

    光刻机 ASML 极紫外光刻
    2025年06月29日
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  • 另辟蹊径!不用EUV光刻机也能做出5nm

    另辟蹊径!不用EUV光刻机也能做出5nm

    快科技5月30日消息,大家都知道,当下先进工艺(尤其是7nm以下),基本都依赖ASML的EUV极紫外光刻机。 按照传统认知,没有EUV就造不出先进工艺,那有没有其他办法呢。 前段时间,世界上就有一种“特殊&rdquo...

    极紫外光刻 光刻机 5nm
    2025年05月30日
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  • 可量产0.2nm工艺!ASML公布Hyper NA EUV光刻机:死胡同不远了

    可量产0.2nm工艺!ASML公布Hyper NA EUV光刻机:死胡同不远了

    快科技6月16日消息,ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机,预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右,也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻机孔径数...

    ASML 光刻机 极紫外光刻
    2024年06月16日
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