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中国光刻胶领域取得新突破！首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”
快科技10月26日消息，我国光刻胶领域取得新突破！ 据科技日报报道，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维...
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ASML发货第一款革命性3D封装光刻机！分辨率400纳米、每小时270块晶圆
快科技10月22日消息，ASML(阿斯麦)宣布，已经向客户交付第一台专为先进封装应用开发的光刻机“TWINSCAN XT:260”，可用于3D芯片、Chiplets芯粒的制造与封装。 XT:260的目标是解决芯片封装日益增长的复...
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台积电“银色高速公路”首度公开！EUV光刻机生产芯片全程曝光
快科技10月20日消息，这是台积电内部“银色高速公路”首度公开。 近日，台积电发布一段罕见视频，展示其位于美国亚利桑那州的Fab 21工厂内部运作，让外界得以深入了解该工厂采用的N4/N5先进制程技术生...
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全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动
快科技9月8日消息，EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备，同样重要的还有EUV光刻胶，现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。 来自无锡政府网站的消息，9月4日2025集成电路（无锡）创新发展大...
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用上30亿一台的EUV光刻机 Intel对14A仍有信心：没客户的可能不大
快科技9月7日消息，Intel公司今年将量产18A工艺，这是他们四年五代工艺中的关键一环，而且该工艺会持续改进，一直用到2030年。 18A下一代工艺就是14A了，这一代还会用上High NA EUV光刻机，也就是ASML公司的Twins...
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美国投行给中国光刻机落后ASML 20年原因：缺乏制造先进光刻扫描仪能力
快科技9月3日消息，昨天美国知名的投行高盛给出观点称，中国先进芯片制造业落后西方技术20年。 投资银行高盛认为，中国光刻机公司至少落后美国同行20年。光刻技术是半导体制造的几个环节之一，也是阻碍中国制造高...
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高盛：中国光刻机只能造65nm！落后ASML 20年
快科技9月2日消息，近些年，我国在半导体芯片领域不断努力追赶，但差距依旧比较大，也是被卡脖子最严重的科技产业。 根据著名投资银行高盛最新发布的报告，他们认为中国的国产光刻机只能生产65nm工艺的芯片，相比...
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日本觊觎台积电2nm原因找到了：刻蚀机价值不输EUV光刻机
快科技8月29日消息，台积电2nm工艺窃密案日前侦结，有3人起诉，最高可判14年，后果非常严重。 这件事还牵涉到了日本KEL威力科创，其中的主犯陈某就是从台积电离职后加入了这家公司，他们也是全球TOP级的半导体设...
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ASML向中国出口一台光刻机有多赚钱：利润相当于20万吨猪肉
快科技8月19日消息，近日，我国驻爱尔兰特命全权大使赵希源接受采访时表示，荷兰公司对华出口一台光刻机利润相当于20万吨猪肉。 过去数十年中爱经贸合作保持稳定增长势头，但2023年爱对华出口出现了明显下降，原...
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中国刻刀来了！首台国产商业电子束光刻机“羲之”出炉：和EUV光刻机有何区别
快科技8月17日消息，据国内媒体报道，近日，全国首台国产商业电子束光刻机在杭州“出炉”，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。 在杭州城西科创大走廊的浙江...
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EUV随便买就是任性 SK海力士DDR5内存用上6层EUV
快科技8月11日消息，逻辑芯片在进入5nm节点之后全面使用了EUV工艺，存储芯片使用DUV工艺为主，这四五年才刚开始尝试EUV工艺，现在SK海力士公司更为激进，新一代DDR5将使用6层EUV光刻。 大家都知道，相比于DUV光刻...
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攻克7nm指日可待！国产第500台步进光刻机成功交付
快科技8月9日消息，毫无疑问，我国正在发力光刻机，而先进制程的7nm工艺早晚会被攻克，目前全产业链都在集体发力。 据上海芯上微装科技股份有限公司（简称“芯上微装”或“AMIES”）发布公告...
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东微电子重大突破 自研光刻机核心零件通过中芯国际、长鑫存储认证
快科技8月7日消息，日前，河南东微电子材料有限公司（以下简称"东微电子"）宣布，其自主研发的光刻机用直线电机、光源、光纤、磁座等关键零部件，正式通过中芯国际和长鑫存储严格认证。 东微电子表示，这不仅是一...
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超越日本！我国第一台纳米压印光刻机交付：线宽小于10nm
快科技8月5日消息，近日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备，顺利通过验收，并交付至国内特色工艺客户，初步完成储存芯片、硅基微显、硅光、先进封装等芯片研发验证。 这标志着我国在...
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唯一EUV光刻机供应商 ASML获得美国豁免：进口无需加税
快科技8月3日消息，先进半导体制造越来越依赖尖端光刻机，尤其是EUV光刻机，其中荷兰ASML公司是当前唯一EUV光刻机供应商，这一独特地位也让他们获得了美国的豁免，出口不受影响。 美国与欧盟前不久宣布达成了贸易...
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30亿元/台！全球首台顶级光刻机出货 支持后2nm工艺：中国厂商不可能买到
快科技7月17日消息，光刻机龙头ASML现在宣布，全球首台最强光刻机第二代High NA EUV已经出货。 按照官方的说法，EXE:5200是ASML对现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进版本，首台买家是英特尔，一台售价近30...
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史上最先进！ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机：5nm单次曝光
快科技6月29日消息，全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机，为未来十年的芯片产业做准备。 Jos Benschop表示，ASML及独家光学合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究可在单次曝光中印...
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英特尔董事：蚀刻技术将取代光刻成芯片制造核心
快科技6月20日消息，据媒体报道，英特尔一位董事提出，未来晶体管设计（如GAAFET和CFET）可能降低芯片制造对先进光刻设备（尤其是EUV光刻机）的依赖。这一观点挑战了当前先进芯片制造的核心范式。 目前，ASML的极...
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ASML称中国早已研发国产光刻机：中科院成功研发DUV光源技术 能生产3nm
快科技6月7日消息，据国外媒体报道称，近日ASML CEO接受媒体采访时表示，中国早已研发国产光刻设备。 在这位CEO看来，尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走，但美国出台的打压措施只会适得其反，让中国&...
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另辟蹊径！不用EUV光刻机也能做出5nm
快科技5月30日消息，大家都知道，当下先进工艺（尤其是7nm以下），基本都依赖ASML的EUV极紫外光刻机。 按照传统认知，没有EUV就造不出先进工艺，那有没有其他办法呢。 前段时间，世界上就有一种“特殊&rdquo...