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美国官方投资EUV初创企业xLight:1000W功率 4倍于ASML光刻机
快科技12月2日消息,EUV技术对5nm以下的先进工艺已经必不可少,全球唯一能生产EUV光刻机的只有荷兰ASML,美国现在也在这个领域加大了投资,官方下场投资了一家初创企业。 这家公司名为xLight,他们的目标是开发新...
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2nm工艺志在必得 日本三大EUV光刻胶巨头巨资扩产
快科技11月3日消息,EUV工艺是5nm节点之后无法绕过的先进工艺,EUV光刻机只有荷兰ASML能产,但日本在EUV光刻胶领域很有优势,针对2nm及以下节点,日本三大化工巨头都在积极扩产。 日本半导体材料厂东京应化工业(...
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全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动
快科技9月8日消息,EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备,同样重要的还有EUV光刻胶,现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。 来自无锡政府网站的消息,9月4日2025集成电路(无锡)创新发展大...
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史上最先进!ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机:5nm单次曝光
快科技6月29日消息,全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机,为未来十年的芯片产业做准备。 Jos Benschop表示,ASML及独家光学合作伙伴蔡司(Carl Zeiss)正在研究可在单次曝光中印...
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另辟蹊径!不用EUV光刻机也能做出5nm
快科技5月30日消息,大家都知道,当下先进工艺(尤其是7nm以下),基本都依赖ASML的EUV极紫外光刻机。 按照传统认知,没有EUV就造不出先进工艺,那有没有其他办法呢。 前段时间,世界上就有一种“特殊&rdquo...
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可量产0.2nm工艺!ASML公布Hyper NA EUV光刻机:死胡同不远了
快科技6月16日消息,ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机,预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右,也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻机孔径数...
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台积电买的ASML EUV光刻机被曝暗藏后门:可以远程自毁!
据外媒报道,台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机,暗藏了一个致命的后门,可以在必要的时候执行远程自毁。 至于这个自毁开关为何存在,意在何时使用,无需赘言。 但目前尚不清楚它到底是否真的存在,...
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Intel 14A工艺至关重要!2025年之后稳定领先
这几年,Intel以空前的力度推进先进制程工艺,希望以最快的速度反超台积电,重夺领先地位,现在又重申了这一路线,尤其是意欲通过未来的14A 1.4nm级工艺,在未来巩固自己的领先地位。 目前,Intel正在按计划实现...







