-
攻克我国量子计算芯片生产难题！国光量超推出1nm离子束刻蚀机
快科技7月17日消息，据国光量子介绍，近日国光量超在量子芯片制造领域取得重大突破，推出4英寸1nm精度离子束刻蚀机。 该设备将为量子芯片生产带来前所未有的精度和效率提升，有望推动我国量子计算高精度芯片的进...
-
英特尔董事：蚀刻技术将取代光刻成芯片制造核心
快科技6月20日消息，据媒体报道，英特尔一位董事提出，未来晶体管设计（如GAAFET和CFET）可能降低芯片制造对先进光刻设备（尤其是EUV光刻机）的依赖。这一观点挑战了当前先进芯片制造的核心范式。 目前，ASML的极...